アイ・ウェイウェイ展 ―何に因って？

会場：森美術館（東京都港区六本木6-10-1 六本木ヒルズ森タワー53階）
会期：2009年7月25日〜2009年11月8日
時間：10:00-22:00（火曜：10:00-17:00）
休館：会期中無休
入館料：一般 1,500円
アイ・ウェイウェイ［艾未未］は、現代中国を代表するクリエイターのひとりです。美術、建築、デザイン、出版、展覧会企画など多岐にわたる分野で活躍していますが、とくに2007年の「ドクメンタ12」（カッセル、ドイツ）、2008年の北京オリンピックスタジアム設計に際するヘルツォーク＆ド・ムーロンとのコラボレーションによって国際的な評価を高めました。「アイ・ウェイウェイ展―何に因って？」は、本展のための新作6点を含め、1990年代以降の主要作品26点を紹介する過去最大級の個展となります。立体、写真、ビデオ、インスタレーションなど多岐にわたる表現を「基礎的な形体とボリューム」、「構造とクラフトマンシップ」、「伝統の革新と継承」という観点から見つめつつ、1999年以降の建築プロジェクトや出版物、ニューヨーク時代の写真なども併せて紹介します。アイの作品を横断的に読み解くことで、表現のジャンルとしては中間的で曖昧な領域から、文化的、歴史的、社会的な因果関係、「何が何に因って在るのか」、そして「自分はどこから来て、どこへ行くのか」という人間の根源的な問いが浮き彫りになってきます。急速な経済発展、社会的変革の渦中にある中国に身を置きながら、独自の視点で現代を過去と繋ぎ、個人を世界と繋ぐアイ・ウェイウェイ。現代中国で最も刺激的なクリエイターが世界を見つめる眼差しを、展覧会を通して共有いただけることと思います。
森美術館（MAM）：http://www.mori.art.museum/jp/

明日から。森美術館、かなり久しく行っていない。